HELIOS III 納秒激光去斑嫩膚儀
嶄新能量穩壓裝置
能量穩定不減弱嶄新的預熱光束 (Top Flat Mode)，使能量明顯統一，無論打多少發，激光能量平均穩定而不減弱。 以532nm/1064nm波長，在一億分之一秒內，將黑色素打碎成細小的色素顆粒，再透過人體的吞噬細胞吸收、代謝排出。 獨創的雙光束飛梭技術，RTP智慧型脈衝技術，將高能量激光同一時間分兩次傳送，產生的雙重熱效應，深入肌膚底層，刺激膠原蛋白再生。
對付各種皮膚炎症
FR Mode利用Long Pulse的激光令皮脂腺萎縮,從而抑制油脂分泌，降低出油量，從根本抑制暗瘡、粉刺形成。透過高溫加熱破壞痤瘡桿菌，控制皮膚炎症。同時徹底清除老化角質、真皮層皮脂阻塞污垢。
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Helios III 納秒激光優勝之處
採用的雙光束納秒飛點 81 激光專利技術，包括 532nm 及 1064nm 波長的激光，令高能量激光束射入皮膚時形成光學鏡，透過折射性光體片，使光束聚焦成 81 點，由於每一點都有相同的高能量密度（14.8mJ）及穿透深度，故比同類治療高出 8 至 10 倍激光能量，也達致較佳治療效果。
- 傳統激光祛斑治療利用單一波長﹙1064nm﹚及 2 種不同模式﹙2G / 1G﹚，未能深入擊退不同肌膚層色素。
- Helios III 革新 4G 技術，利用 2 種波長﹙1064nm / 532nm﹚配合 5 種操控模式﹙4G / 3G / 2G / 1G / Free Running Mode﹚，令埋藏於不同肌膚層的色素都能被逐一擊退。
* 榮獲美國FDA權威認證、韓國KFDA認可證書、歐盟國家規格CE安全認證、ISO 9001：2000及ISO 13485：2003